«Микрон» начал тестирование первого российского фоторезиста для микросхем 90 нм

«Микрон» начал тестирование первого российского фоторезиста для микросхем 90 нм
ФОТО: ferra.ru

Компания «Микрон», резидент особой экономической зоны «Технополис Москва», тестирует первый отечественный фоторезист для производства микросхем по 90-нанометровому процессу. Об этом сообщил заммэра Москвы Максим Ликсутов.

Разработка позволит снизить зависимость от зарубежных материалов в микроэлектронике. .

микрон тестирование российского фоторезиста микросхем

2025-5-18 12:26