
Согласно информации китайского издания SCMP, команда из Шанхайского института оптики и точной механики в Китае разработала платформу источника EUV-света, конкурентоспособную по сравнению с существующими машинами для EUV-литографии, единственным производителем которых является голландская компания ASML. Этот производитель не может поставлять Китаю свою продукцию.
ferra.ru2025-4-30 21:00