Ученые Национального исследовательского университета «МЭИ» разработали источник излучения в экстремальном ультрафиолетовом диапазоне (ЭУФ). Эта технология позволит улучшить процесс литографии микросхем, делая их компактнее и повышая быстродействие.
ferra.ru2024-11-30 15:18